K&F Concept K&F 58MM, ultra-nízky odrazový UV filter série NANO-X, ultra číre šošovky, vodotesné, proti poškriabaniu

Descriere detaliată a produsului

UV filter K&F 58MM Nano-X Ultra-Low Reflection ponúka výnimočnú čistotu a ochranu pre váš objektív. Vďaka svojim pokročilým povrchovým úpravám a vysokokvalitnému optickému sklu zvyšuje kvalitu obrazu a znižuje nežiaduce odrazy a odlesky.

Vlastnosti

• UV filter s ultranízkym odrazom: Titánová povrchová úprava znižuje odraz povrchu na 0,1 %, čím sa zvyšuje priepustnosť svetla a minimalizujú sa duchovia a odlesky v protisvetle.
• Prémiové optické sklo: Optické sklo HD zaisťuje obraz ostrý ako britva a presnú reprodukciu farieb.
• Optimálna kvalita obrazu: Poskytuje ≥99,8% priepustnosť svetla a ≤0,1% odraz, ideálne pre 4K/8K video a fotografie s vysokým rozlíšením.
• Technológia MRC: 28-vrstvový multi-odolný náter obsahuje zelený nano náter, vďaka čomu je filter odolný voči poškriabaniu, vode a prachu.
• Tenký rám bez vinetácie: Ľahký hliníkový rám s hrúbkou 3,3 mm znižuje riziko vinetácie, vhodný pre širokouhlé snímanie.