K&F Concept K&F 55MM, ultra-nízky odrazový UV filter série NANO-X, ultra číre šošovky, vodotesné, odolné proti poškriabaniu

Descriere detaliată a produsului

Špičkový UV filter určený pre fotografov, ktorí hľadajú výnimočnú čistotu obrazu a ochranu pre svoje šošovky.

Vlastnosti

• UV filter s ultra nízkym odrazom: K&F Concept využíva technológiu titánovej povrchovej úpravy UV filtra s ultra-nízkym odrazom na zníženie povrchového odrazu filtra na 0,1 %. To zlepšuje priepustnosť svetla, účinne zabraňuje oslneniu v protisvetle a duchom a zaisťuje bezchybnú ostrosť.
• Prémiové optické sklo: Ultra-Low Reflection UV filter série K&F Concept Nano-X je vyrobený z HD optického skla pre obraz ostrý ako britva a zachováva skutočnú farbu fotografií.
• Optimálna kvalita obrazu: Ultra-Low Reflection UV Filter má priepustnosť svetla ≥ 99,8 % a odraz ≤ 0,1 %, vďaka čomu je vhodný na natáčanie 4K/8K HD videa a fotografické zobrazovanie.
• Odporúčané: Séria K&F Concept Nano-X využíva technológiu 28-vrstvovej multiodolnej povrchovej úpravy. Tento zelený nano povlak robí filter odolným proti poškriabaniu, vode, oleju a prachu.
• Tenký rám bez vinetácie: Tenký a ľahký hliníkový rám UV filtra s hrúbkou 3,3 mm znižuje dopad svetla a efektívne sa vyhýba tmavým rohom pri širokouhlom snímaní.